定位制备InAs纳米线阵列的装置及制备方法

所属领域:半导体纳米材料、砷化铟纳米线、纳米线阵列、III-V半导体、定向纳米线、半导体纳米阵列、一维半导体材料、纳米线生长、半导体微纳结构、定向生长工装、红外半导体材料、纳米线制备、半导体纳米晶、阵列化纳米材料、一维半导体纳米结构 · 已下证
定位制备InAs纳米线阵列的装置及制备方法发明专利
专利号2023104269745
专利类型发明专利
专利状态已下证
专利领域半导体纳米材料、砷化铟纳米线、纳米线阵列、III-V半导体、定向纳米线、半导体纳米阵列、一维半导体材料、纳米线生长、半导体微纳结构、定向生长工装、红外半导体材料、纳米线制备、半导体纳米晶、阵列化纳米材料、一维半导体纳米结构
专利价格****
公开(公告)号2023104269745
IPC分类C23C 18/44 (2006.01)
申请日2023-04-20
公开日2026-01-09
申请人江南大学
发明人林良良;张孜弈
专利权人江南大学
授权公告号CN116575018B
高企状态未报高企
缴费日期2027-05-20

专利摘要

本发明涉及一种定位制备InAs纳米线阵列的装置及制备方法,将可控的二维移动装置与限域直流放电相结合,通过控制装置移速、前驱体流速以及气速,能够实现在基板上沉积不同排列间隙及尺寸的贵金属纳米催化剂阵列;实现对InAs纳米线间距的精细控制。本发明相较于常规的溶液制备催化剂方法,步骤更为精简,将催化剂直接通过电流打印在基底上,加快了反应速度,避免使用化学还原剂;本发明还能够通过控制参数来控制催化剂颗粒大小,进而控制反应速率、纳米线成品粗细;本发明制备的催化剂颗粒带有电荷,在静电排斥作用下阻止催化物聚集,保障催化物的均一性,进而保证纳米线成品的纯度和陈列形状。


专利解读

《定位制备InAs纳米线阵列的装置及制备方法》是一发明专利,专利号为 2023104269745,当前法律状态为已下证,由江南大学提出申请,发明人为林良良;张孜弈,申请日期为2023-04-20,公开(公告)日期为2026-01-09,国际专利分类号(IPC)为 C23C 18/44 (2006.01),高新资质:未报高企,所属技术领域包括:半导体纳米材料、砷化铟纳米线、纳米线阵列、III-V半导体、定向纳米线、半导体纳米阵列、一维半导体材料、纳米线生长、半导体微纳结构、定向生长工装、红外半导体材料、纳米线制备、半导体纳米晶、阵列化纳米材料、一维半导体纳米结构。该专利已下发证书,权利稳定,适合直接办理转让过户,是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更(过户)的一站式专利转让服务,专业顾问全程协助,确保交易合规、安全、高效。专利摘要:本发明涉及一种定位制备InAs纳米线阵列的装置及制备方法,将可控的二维移动装置与限域直流放电相结合,通过控制装置移速、前驱体流速以及气速,能够实现在基板上沉积不同排列间隙及尺寸的贵金属纳米催化剂阵列;实现对InAs纳米线间距的精细控制。本发明相较于常规的溶液制备催化剂方法,步骤更为精简,将催化剂直接通过电流打印在基底上,加快了反应速度,避免使用化学还原剂;本发明还能够通过控制参数来控制催化剂颗粒大小,进而控制反应速率、纳米线成品粗细;本发明制备的催化剂颗粒带有电荷,在静电排斥作用下阻止催化物聚集,保障催化物的均一性,进而保证纳米线成品的纯度和陈列形状。


同领域相关专利
专利价值

海量优质专利即买即用,四大核心优势助您弯道超车:
🏆 拿资质,享红利:高企认定、专精特新必备!轻松获取政府补贴、税收减免,招投标直接加分!
💎 增信誉,融资金:支持实缴注册资金,彰显企业硬实力;支持专利质押贷款,盘活现金流,扩张不缺钱!
🔥 强背书,防抄袭:印上“专利产品”,客户更信赖!构建技术壁垒,把竞争对手挡在门外,稳占市场份额!
🚀 省时间,快变现:告别漫长研发与高风险!优质专利即买即用,让技术立刻变成真金白银的利润!

常见问题
购买专利需要多长时间?+
专利转让流程通常需要 1–3 个月,具体周期取决于国家知识产权局的审查与公告进度,顾问会全程跟进。
专利真实有效吗?+
平台所有专利均来自官方公开数据,支持在国知局官网核验法律状态,确保真实可查。
交易安全如何保障?+
本平台同时作为专利出让方,交易款项由平台直接收取,不通过第三方资金托管。我们郑重承诺:若因平台原因(如专利法律状态异常、转让手续无法办理等)导致交易未能完成,将为您全额退款,切实保障您的资金安全。
价格可以议价吗?+
标价为基础参考价,实际成交价可据批量采购、转让方式等协商,提交需求后顾问会给您最优报价。

待选专利