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一种光束防冷热差异反射式物位标定仪表仪器 出售状态:未出售

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专利号 2019109565293 专利类型 发明专利
专利分类 仪器仪表 专利状态 已下证
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专利详细内容

专利名: 一种光束防冷热差异反射式物位标定仪表仪器 出售状态: 未出售
专利号: 2019109565293 专利类型: 发明专利 专利分类: 仪器仪表
专利权人: 联系人 出售价格: 面议
详细介绍:


技术领域

本发明属于物位仪器仪表领域,更具体地说,尤其是涉及到一种光束防冷热差异反射式物位标定仪表仪器。


背景技术

当反射光波的物位仪器在标定位置时,将仪器垂直放置于反射板相对立面,让其光束能够垂直的投射在反射板上,根据所需在对反射板进行调整成合适的状态。

基于上述本发明人发现,现有的反射式物位仪表标定主要存在以下几点不足,比如:

其射出的光束的具有一定热量的,当照射口的温度低于一定度时,光束一接触,将会产生小水珠,当其凝结在一起时会挡住照射口,导致照射出来的光束有所放大偏移,甚至让其热量聚集从而导致设备的损坏。

因此需要提出一种光束防冷热差异反射式物位标定仪表仪器。


发明内容

为了解决上述技术其射出的光束的具有一定热量的,当照射口的温度低于一定度时,光束一接触,将会产生小水珠,当其凝结在一起时会挡住照射口,导致照射出来的光束有所放大偏移,甚至让其热量聚集从而导致设备的损坏的问题。

本发明一种光束防冷热差异反射式物位标定仪表仪器的目的与功效,由以下具体技术手段所达成:

其结构包括聚光照射头、描孔、物位标定仪、调节旋头、底固定座。

所述聚光照射头贯穿于物位标定仪内部,所述描孔焊接于物位标定仪外表面,所述物位标定仪远离聚光照射头的一端与调节旋头相连接,所述底固定座安装于物位标定仪底端表面。

所述聚光照射头包括外限壳、聚光边、中空口、固弧头、水珠托角,所述固弧头嵌入于外限壳内部,所述水珠托角与聚光边相连接,所述中空口贯穿于聚光边内部。

作为本发明的进一步改进,所述水珠托角包括拉扯杆、兜孔、托芯条、垂头块、擦水条,所述拉扯杆与兜孔相连接,所述托芯条安装于兜孔与垂头块之间,所述垂头块抵在擦水条外表面,所述拉扯杆设有两个,所述兜孔为圆环形结构。

作为本发明的进一步改进,所述擦水条包括拉曲条、外软层、软棉吸球、中托球,所述拉曲条嵌入于外软层内部,所述外软层与软棉吸球相连接,所述外软层贯穿于中托球内部,所述软棉吸球为球体结构。

作为本发明的进一步改进,所述托芯条包括卡头、外弹层、钩条、扯隔空,所述钩条嵌入于卡头内部,所述钩条安装于外弹层内部,所述扯隔空与外弹层相连接,所述钩条设有两个,所述扯隔空为椭圆形结构。

作为本发明的进一步改进,所述拉曲条包括固点头、回绷条、展曲角,所述固点头与回绷条相连接,所述回绷条远离固点头的一端与展曲角相连接,所述固点头设有两个,所述回绷条由橡胶材质所制成,具有一定的回弹性。

作为本发明的进一步改进,所述软棉吸球包括凸推角、环形吸球、辅助吸体、聚集弧,所述凸推角与辅助吸体相连接,所述环形吸球嵌入于辅助吸体内部,所述辅助吸体外表面抵有聚集弧,所述环形吸球设有五个,所述聚集弧为半弧形结构。

与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:

让描孔对照于反射板上,由聚光照射头射出的光束对其进行标定,在对标定板进行调整成所需的位置,当光束照射至一定时间后,会产生一定的热度,使其水珠托角粘附到水珠,将会被吸附,当垂头块托附到水珠的重力时,其中托球自身的重力,跟随重力的方向摆动倾斜,对其整体实施一定的力,由拉扯的力对其回绷条进行压迫,使得展曲角跟随其展开,辅助回绷条进行拉扯,根据力的大小进行拉扯形变,给予其缓冲反力的作用,并且带动另外一端的兜孔下移,当兜孔下移的同时,由拉扯杆将其拉扯住,能够对衔接物体起到拉扯的作用,让其不会错位活动,通过辅助吸体吸入环形吸球内部,当水珠吸入环形吸球时,其中托球将会失去重力从而归位,能够在光束照射到一定温度时,与出口产生温差的水珠,及时的将其进行吸附处理。


附图说明

图1为本发明一种光束防冷热差异反射式物位标定仪表仪器的结构示意图。

图2为本发明一种聚光照射头的正视内部结构示意图。

图3为本发明一种水珠托角的正视内部结构示意图。

图4为本发明一种擦水条的正视内部结构示意图。

图5为本发明一种托芯条的正视内部结构示意图。

图6为本发明一种拉曲条的正视内部结构示意图。

图7为本发明一种软棉吸球的正视内部结构示意图。

图中:聚光照射头-11、描孔-22、物位标定仪-33、调节旋头-44、底固定座-55、外限壳-aa1、聚光边-aa2、中空口-aa3、固弧头-aa4、水珠托角-aa5、拉扯杆-tt01、兜孔-tt02、托芯条-tt03、垂头块-tt04、擦水条-tt05、拉曲条-gg1、外软层-gg2、软棉吸球-gg3、中托球-gg4、卡头-a1a、外弹层-a2a、钩条-a3a、扯隔空-a4a、固点头-pp01、回绷条-pp02、展曲角-pp03、凸推角-uu1、环形吸球-uu2、辅助吸体-uu3、聚集弧-uu4。


具体实施方式

以下结合附图对本发明做进一步描述:


实施例:

如附图1至附图7所示:

本发明提供一种光束防冷热差异反射式物位标定仪表仪器,其结构包括聚光照射头11、描孔22、物位标定仪33、调节旋头44、底固定座55。

所述聚光照射头11贯穿于物位标定仪33内部,所述描孔22焊接于物位标定仪33外表面,所述物位标定仪33远离聚光照射头11的一端与调节旋头44相连接,所述底固定座55安装于物位标定仪33底端表面。

所述聚光照射头11包括外限壳aa1、聚光边aa2、中空口aa3、固弧头aa4、水珠托角aa5,所述固弧头aa4嵌入于外限壳aa1内部,所述水珠托角aa5与聚光边aa2相连接,所述中空口aa3贯穿于聚光边aa2内部。

其中,所述水珠托角aa5包括拉扯杆tt01、兜孔tt02、托芯条tt03、垂头块tt04、擦水条tt05,所述拉扯杆tt01与兜孔tt02相连接,所述托芯条tt03安装于兜孔tt02与垂头块tt04之间,所述垂头块tt04抵在擦水条tt05外表面,所述拉扯杆tt01设有两个,所述兜孔tt02为圆环形结构,所述垂头块tt04自身的重力,当外界有着附的重力时,将会被倾向重力拖动,拉扯杆tt01能够对衔接物体起到拉扯的作用,让其不会错位活动,兜孔tt02能够让两个衔接部位更好的施力与受力。

其中,所述擦水条tt05包括拉曲条gg1、外软层gg2、软棉吸球gg3、中托球gg4,所述拉曲条gg1嵌入于外软层gg2内部,所述外软层gg2与软棉吸球gg3相连接,所述外软层gg2贯穿于中托球gg4内部,所述软棉吸球gg3为球体结构,所述中托球gg4跟随重力的方向摆动倾斜,对其整体实施一定的力,软棉吸球gg3根据衔接部位的形变而产生位移,拉曲条gg1能够根据外部所需的长度进行一定的伸缩,并且限制住最大范围。

其中,所述托芯条tt03包括卡头a1a、外弹层a2a、钩条a3a、扯隔空a4a,所述钩条a3a嵌入于卡头a1a内部,所述钩条a3a安装于外弹层a2a内部,所述扯隔空a4a与外弹层a2a相连接,所述钩条a3a设有两个,所述扯隔空a4a为椭圆形结构,所述卡头a1a能够托住两侧所固定的力,给予两端固定的拉扯受力点,钩条a3a限制整体拉扯的距离与范围,扯隔空a4a防止两侧缠绕交叉在一起。

其中,所述拉曲条gg1包括固点头pp01、回绷条pp02、展曲角pp03,所述固点头pp01与回绷条pp02相连接,所述回绷条pp02远离固点头pp01的一端与展曲角pp03相连接,所述固点头pp01设有两个,所述回绷条pp02由橡胶材质所制成,具有一定的回弹性,所述回绷条pp02根据力的大小进行拉扯形变,给予其缓冲反力的作用,展曲角pp03能够在两侧产生形变拉扯弯曲时,起到伸展与防护的作用。

其中,所述软棉吸球gg3包括凸推角uu1、环形吸球uu2、辅助吸体uu3、聚集弧uu4,所述凸推角uu1与辅助吸体uu3相连接,所述环形吸球uu2嵌入于辅助吸体uu3内部,所述辅助吸体uu3外表面抵有聚集弧uu4,所述环形吸球uu2设有五个,所述聚集弧uu4为半弧形结构,所述凸推角uu1能够在整体顺势移动时,在前方进行开路,聚集弧uu4将外部水珠进行大面积的收集,辅助吸体uu3将衔接部位的水珠进行再一次的吸附,环形吸球uu2将水珠锁住,并且能够全方位吸附。

本实施例的具体使用方式与作用:

本发明中,当底固定座55安装于所需的位置时,通过对物位标定仪33的调节,让描孔22对照于反射板上,由聚光照射头11射出的光束对其进行标定,在对标定板进行调整成所需的位置,当光束照射至一定时间后,会产生一定的热度,并且与聚光边aa2形成鲜明的温度差异时,中空口aa3内部会产生小水珠,使其水珠托角aa5粘附到水珠,将会被吸附,当垂头块tt04托附到水珠的重力时,其中托球gg4自身的重力,将会往下沉动,其抵住的外软层gg2将会一并的往下移动,内部的拉曲条gg1将会施展开,由固点头pp01对其两侧的力进行固定,由拉扯的力对其回绷条pp02进行压迫,使得展曲角pp03跟随其展开,辅助回绷条pp02进行拉扯,让中托球gg4持续下沉,与其中托球gg4衔接在一起的卡头a1a将会拖动钩条a3a往下沉动,并且带动另外一端的兜孔tt02下移,当兜孔tt02下移的同时,由拉扯杆tt01将其拉扯住,并且推动擦水条tt05,将其下端抵住的软棉吸球gg3往外扩张推动,其凸推角uu1将会顺着聚光边aa2进行移动,移动过的位置将会被聚集弧uu4所吸附,将水珠往内吸附,通过辅助吸体uu3吸入环形吸球uu2内部,当水珠吸入环形吸球uu2时,其中托球gg4将会失去重力从而归位。

利用本发明所述技术方案,或本领域的技术人员在本发明技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本发明的保护范围。

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