适用于非正入射角的结构色超表面高品质因数窄带滤光片
所属领域：（超表面、窄带滤光片、结构色、椭圆柱纳米线、高品质因数、非正入射、半峰全宽、光学薄膜、光谱成像、微纳光学） · 已下证
发明专利专利号202310866288X
专利类型发明专利
专利状态已下证
专利领域（超表面、窄带滤光片、结构色、椭圆柱纳米线、高品质因数、非正入射、半峰全宽、光学薄膜、光谱成像、微纳光学）
专利价格****
公开（公告）号202310866288X
IPC分类G02B 5/20 (2006.01)
申请日2023-07-14
公开日2026-05-15
申请人杭州电子科技大学
发明人郑磊;张钰;逯鑫淼;高敏;张朝晖;袁友芬;向广明;熊磊
专利权人杭州电子科技大学
授权公告号CN116774336B
高企状态未报高企
缴费日期2027-08-16
专利摘要
本发明公开了一种适用于非正入射角的结构色超表面高品质因数窄带滤光片，其包括依次层叠的基底层、中间层和纳米线阵列。所述基底层为Al
专利解读
《适用于非正入射角的结构色超表面高品质因数窄带滤光片》是一发明专利，专利号为 202310866288X，当前法律状态为已下证，由杭州电子科技大学提出申请，发明人为郑磊;张钰;逯鑫淼;高敏;张朝晖;袁友芬;向广明;熊磊，申请日期为2023-07-14，公开（公告）日期为2026-05-15，国际专利分类号（IPC）为 G02B 5/20 (2006.01)，高新资质：未报高企，所属技术领域包括：（超表面、窄带滤光片、结构色、椭圆柱纳米线、高品质因数、非正入射、半峰全宽、光学薄膜、光谱成像、微纳光学）。该专利已下发证书，权利稳定，适合直接办理转让过户，是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更（过户）的一站式专利转让服务，专业顾问全程协助，确保交易合规、安全、高效。专利摘要：本发明公开了一种适用于非正入射角的结构色超表面高品质因数窄带滤光片，其包括依次层叠的基底层、中间层和纳米线阵列。所述基底层为Al
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