一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法
本发明公开了一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法,光栅偏振片依次包括基底层、光刻胶层、金属膜层、第一介质膜层和第二介质膜层,所述第一介质膜层的折射率大于或等于所述光刻胶层的折射率,所述第二介质膜层的折射率大于所述基底层的折射率,所述金属膜层、所述第一介质膜层和所述第二介质膜层形成多层光栅结构。本发明实施例能够提高消光比和透光效率,可广泛应用于光器件技术领域。
《一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法》是一发明专利,专利号为 2024119644930,当前法律状态为已下证,由南方海洋科学与工程广东省实验室(珠海)提出申请,发明人为张淏酥;王梓豪;徐灵基;蔡悦盈;杨亮;牟伟;苗建明;刘涛,申请日期为2024-12-30,公开(公告)日期为2025-11-18,国际专利分类号(IPC)为 G02B 5/30 (2006.01),高新资质:未报高企,所属技术领域包括:优审,公示15天需要二变预留前请先联系确认未报项目代售。该专利已下发证书,权利稳定,适合直接办理转让过户,是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更(过户)的一站式专利转让服务,专业顾问全程协助,确保交易合规、安全、高效。专利摘要:本发明公开了一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法,光栅偏振片依次包括基底层、光刻胶层、金属膜层、第一介质膜层和第二介质膜层,所述第一介质膜层的折射率大于或等于所述光刻胶层的折射率,所述第二介质膜层的折射率大于所述基底层的折射率,所述金属膜层、所述第一介质膜层和所述第二介质膜层形成多层光栅结构。本发明实施例能够提高消光比和透光效率,可广泛应用于光器件技术领域。
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