一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法

本发明公开一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法。本发明方法准确率高，鲁棒性好，且对与多种类型的样例具有通用性；采用的核心算法是Delaunay逐点插入法，原理简单，占用内存少，容易完成，执行效率高。同时，由于在对三角网数据处理时中采用了二维vector，空间复杂度可以表示为O(N

《一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法》是一发明专利，专利号为 2020108703250，当前法律状态为已下证，由杭州电子科技大学提出申请，发明人为何志伟;何松涛;陈志民;叶青青，申请日期为2020-08-26，公开（公告）日期为2024-09-27，国际专利分类号（IPC）为 G06F 30/39 (2020.01)，所属技术领域包括：集成电路IC芯片光掩膜光学邻近校正opc校正Delaunay三角网光掩膜凸壳Delaunay逐点插入法手机平板笔记本电脑蓝牙耳机充电宝智能手表通信新能源汽车仪器仪表家电。该专利已下发证书，权利稳定，适合直接办理转让过户，是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更（过户）的一站式专利转让服务，专业顾问全程协助，确保交易合规、安全、高效。专利摘要：本发明公开一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法。本发明方法准确率高，鲁棒性好，且对与多种类型的样例具有通用性；采用的核心算法是Delaunay逐点插入法，原理简单，占用内存少，容易完成，执行效率高。同时，由于在对三角网数据处理时中采用了二维vector，空间复杂度可以表示为O(N

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