光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液（高校公示15天）（不包年费滞纳金）（需要二变）（半导体制造、光电制造、LED制造、光学玻璃透镜、光通信硅晶圆、碳化硅衬底、蓝宝石衬底）

本发明提供一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液，研磨的步骤为：搭建具备紫外光全波段覆盖而强度能调整且避光的光化学机械研磨平台；启动光化学机械研磨平台对金刚石固结磨料研磨盘进行对磨；调整紫外光LED灯得到合适波长和强度的紫外光，利用紫外光辐照能量诱导光敏研磨液中光引发剂复配物裂解产生苯甲酰和烷基自由基，引发工件表面材料形成硬度低、弹性模量小和断裂韧性高的改性层，对磨改性层得到研磨后的工件。配置光敏活性研磨液，其包括光引发剂复配物、丙二醇、甘油和去离子水。本发明利用光敏研磨液对机械力作用下的工件进行紫外光可控化学改性，减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤，从而实现难加工材料高质量高效率超精密加工。

《光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液（高校公示15天）（不包年费滞纳金）（需要二变）（半导体制造、光电制造、LED制造、光学玻璃透镜、光通信硅晶圆、碳化硅衬底、蓝宝石衬底）》是一发明专利，专利号为 202310037046X，当前法律状态为已下证，由燕山大学提出申请，发明人为黄水泉;黄传真;黄含;穆德魁;王真;徐龙华;曲美娜;许征凯;杨飞燕;安召朋，申请日期为2023-01-10，公开（公告）日期为2023-05-02，国际专利分类号（IPC）为 B24B37/04(2012.01)I;C09G1/02(2006.01)I;C09G1/18(2006.01)I;B24B37/10(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I;B24B7/22(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I，高新资质：未报高企，所属技术领域包括：半导体制造、光电制造、LED制造、光学玻璃透镜、光通信硅晶圆、碳化硅衬底、蓝宝石衬底。该专利已下发证书，权利稳定，适合直接办理转让过户，是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更（过户）的一站式专利转让服务，专业顾问全程协助，确保交易合规、安全、高效。专利摘要：本发明提供一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液，研磨的步骤为：搭建具备紫外光全波段覆盖而强度能调整且避光的光化学机械研磨平台；启动光化学机械研磨平台对金刚石固结磨料研磨盘进行对磨；调整紫外光LED灯得到合适波长和强度的紫外光，利用紫外光辐照能量诱导光敏研磨液中光引发剂复配物裂解产生苯甲酰和烷基自由基，引发工件表面材料形成硬度低、弹性模量小和断裂韧性高的改性层，对磨改性层得到研磨后的工件。配置光敏活性研磨液，其包括光引发剂复配物、丙二醇、甘油和去离子水。本发明利用光敏研磨液对机械力作用下的工件进行紫外光可控化学改性，减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤，从而实现难加工材料高质量高效率超精密加工。

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