一种硅片清洗装置及利用该装置进行清洗的清洗方法

本发明涉及硅片制造领域的一种硅片清洗装置及利用该装置进行清洗的清洗方法，所述清洗装置本体由若干组独立的清洗机构及配合清洗机构设置的烘干机构组成，若干组独立的清洗机构自进料口处到出料口依次按顺序排布设置，所述烘干机构设置在最后一道清洗机构的前一道工序；所述清洗装置本体还配合设置有操作面板，所述清洗装置本体的四周及操作平台上还配合设置有防护栏，所述清洗机构和烘干机构上还设置有运输装置；该发明提供一种硅片清洗装置，对硅片实行多级分段式清洗，彻底清洗硅片表面的杂质，提高硅片使用效率；同时提供一种硅片清洗的方法，通过该方法实现硅片快速化的清洗，避免在清洗过程中产生的不必要的损坏，降低不良率，减少成本。

《一种硅片清洗装置及利用该装置进行清洗的清洗方法》是一发明专利，专利号为 2020103442273，当前法律状态为已下证，由江苏晶科天晟能源有限公司提出申请，发明人为嵇峰，申请日期为2020-04-27，公开（公告）日期为2024-12-06，国际专利分类号（IPC）为 H01L 21/67 (2006.01)，所属技术领域包括：太阳能发电硅片清洗方法、太阳能硅片生产加工、太阳能光伏发电硅片制造、光伏硅片。该专利已下发证书，权利稳定，适合直接办理转让过户，是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更（过户）的一站式专利转让服务，专业顾问全程协助，确保交易合规、安全、高效。专利摘要：本发明涉及硅片制造领域的一种硅片清洗装置及利用该装置进行清洗的清洗方法，所述清洗装置本体由若干组独立的清洗机构及配合清洗机构设置的烘干机构组成，若干组独立的清洗机构自进料口处到出料口依次按顺序排布设置，所述烘干机构设置在最后一道清洗机构的前一道工序；所述清洗装置本体还配合设置有操作面板，所述清洗装置本体的四周及操作平台上还配合设置有防护栏，所述清洗机构和烘干机构上还设置有运输装置；该发明提供一种硅片清洗装置，对硅片实行多级分段式清洗，彻底清洗硅片表面的杂质，提高硅片使用效率；同时提供一种硅片清洗的方法，通过该方法实现硅片快速化的清洗，避免在清洗过程中产生的不必要的损坏，降低不良率，减少成本。

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