一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法(申请人2个)(高校公示15天)(不包年费滞纳金)(需要二变)(激光微纳制造、太阳能光伏、半导体器件、光电探测器、太阳能电池、光伏设备制造)
本发明公开了一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法,该制备方法将纳秒激光辅助水射流近无损伤加工和飞秒激光扫描相结合,通过将纳秒激光辅助水射流近无损伤加工技术和超短脉冲飞秒激光“冷”加工技术相结合,可有效降低单晶硅激光制绒过程中的重铸层现象和热裂纹引起的亚表面损伤;同时通过调整纳秒激光辅助水射流工艺参数和飞秒激光工艺参数可以对微米尺度框架结构和纳米尺度结构分别进行灵活的修改,可以在一个微纳双尺度混合结构中同时实现几何陷光效应和有效介质效应,减少表面反射。
《一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法(申请人2个)(高校公示15天)(不包年费滞纳金)(需要二变)(激光微纳制造、太阳能光伏、半导体器件、光电探测器、太阳能电池、光伏设备制造)》是一发明专利,专利号为 2022106970398,当前法律状态为已下证,由山东大学提出申请,发明人为黄传真;刘雪飞;刘含莲;姚鹏;朱洪涛;邹斌;刘盾;王军;王真;徐龙华;黄水泉,申请日期为2022-06-20,公开(公告)日期为2023-11-21,国际专利分类号(IPC)为 H01L 31/0236 (2006.01),高新资质:未报高企,所属技术领域包括:激光微纳制造、太阳能光伏、半导体器件、光电探测器、太阳能电池、光伏设备制造。该专利已下发证书,权利稳定,适合直接办理转让过户,是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更(过户)的一站式专利转让服务,专业顾问全程协助,确保交易合规、安全、高效。专利摘要:本发明公开了一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法,该制备方法将纳秒激光辅助水射流近无损伤加工和飞秒激光扫描相结合,通过将纳秒激光辅助水射流近无损伤加工技术和超短脉冲飞秒激光“冷”加工技术相结合,可有效降低单晶硅激光制绒过程中的重铸层现象和热裂纹引起的亚表面损伤;同时通过调整纳秒激光辅助水射流工艺参数和飞秒激光工艺参数可以对微米尺度框架结构和纳米尺度结构分别进行灵活的修改,可以在一个微纳双尺度混合结构中同时实现几何陷光效应和有效介质效应,减少表面反射。
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