一种具有微/纳米乳突结构的光固化有机硅/SiO2超疏水涂层的制备方法(高校公示15天)(不包年费滞纳金)(需要二变)

所属领域:发明专利 · 已下证
一种具有微/纳米乳突结构的光固化有机硅/SiO2超疏水涂层的制备方法(高校公示15天)(不包年费滞纳金)(需要二变)发明专利
专利号2024118517069
专利类型发明专利
专利状态已下证
专利领域
专利价格****
公开(公告)号2024118517069
IPC分类B05D5/00(2006.01)I;B05D7/00(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;C09D175/14(2006.01)I;C09D4/02(2006.01)I;C09D7/62(2018.01)I
申请日2024-12-16
公开日2025-04-04
申请人浙江理工大学
发明人黄益;蔡坤毅;王浩;张天慧;邵锦平;汤华燊
专利权人浙江理工大学
授权公告号CN119747185A
高企状态未报高企

专利摘要

本发明公开了一种具有微/纳米乳突结构的光固化有机硅/SiO2超疏水涂层的制备方法,针对有机氟材料的环境污染和生物安全性问题,提供一种有机硅聚氨酯丙烯酸酯树脂和改性纳米SiO2复合应用的策略,通过简单、低成本的喷涂方法,将改性纳米SiO2颗粒均匀喷涂在有机硅聚氨酯丙烯酸酯涂层表面,通过活化/诱导剂将改性纳米SiO2聚集,并促使底层聚合物原位向上生长,与纳米SiO2颗粒一起自组装形成连续、均匀的微/纳“乳突”结构。这种具有低表面能的微纳米二级粗糙表面,赋予了光固化涂层优异的疏水性能(水接触角为151°、水滑动角为6°)和防污(抗涂鸦)功能。


专利解读

《一种具有微/纳米乳突结构的光固化有机硅/SiO2超疏水涂层的制备方法(高校公示15天)(不包年费滞纳金)(需要二变)》是一发明专利,专利号为 2024118517069,当前法律状态为已下证,由浙江理工大学提出申请,发明人为黄益;蔡坤毅;王浩;张天慧;邵锦平;汤华燊,申请日期为2024-12-16,公开(公告)日期为2025-04-04,国际专利分类号(IPC)为 B05D5/00(2006.01)I;B05D7/00(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;C09D175/14(2006.01)I;C09D4/02(2006.01)I;C09D7/62(2018.01)I,高新资质:未报高企。该专利已下发证书,权利稳定,适合直接办理转让过户,是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更(过户)的一站式专利转让服务,专业顾问全程协助,确保交易合规、安全、高效。专利摘要:本发明公开了一种具有微/纳米乳突结构的光固化有机硅/SiO2超疏水涂层的制备方法,针对有机氟材料的环境污染和生物安全性问题,提供一种有机硅聚氨酯丙烯酸酯树脂和改性纳米SiO2复合应用的策略,通过简单、低成本的喷涂方法,将改性纳米SiO2颗粒均匀喷涂在有机硅聚氨酯丙烯酸酯涂层表面,通过活化/诱导剂将改性纳米SiO2聚集,并促使底层聚合物原位向上生长,与纳米SiO2颗粒一起自组装形成连续、均匀的微/纳“乳突”结构。这种具有低表面能的微纳米二级粗糙表面,赋予了光固化涂层优异的疏水性能(水接触角为151°、水滑动角为6°)和防污(抗涂鸦)功能。


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