一种钴掺杂磷化铜二维介孔纳米片阵列及其制备方法和应用

《一种钴掺杂磷化铜二维介孔纳米片阵列及其制备方法和应用》是一发明专利，专利号为 2021112230235，当前法律状态为已下证，由江西师范大学提出申请，发明人为杨勇;刘渊;李昕;龚吴非;郭满满;袁彩雷，公开（公告）日期为2022-01-28，国际专利分类号（IPC）为 C25B11/061(2021.01)I;C25B11/091(2021.01)I;C25B1/04(2021.01)I，高新资质：未报高企，所属技术领域包括：钴掺杂磷化铜纳米片、磷化铜纳米材料、过渡金属磷化物、磷化物电催化剂、非贵金属电催化剂、双功能水分解催化剂、析氢电催化剂、析氧电催化剂、全解水电催化剂、电解水催化剂、电催化材料、纳米催化材料、二维纳米材料、介孔纳米材料、纳米片阵列、自支撑电极、泡沫镍电极、电化学电极材料、电解槽电极材料、电催化水分解、电解水制氢、电解水制氧、碱性电解水、析氢反应、析氧反应、绿色制氢、氢能、新能源材料、清洁能源材料、纳米材料制备、催化剂制备、水分解电极。该专利已下发证书，权利稳定，适合直接办理转让过户，是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更（过户）的一站式专利转让服务，专业顾问全程协助，确保交易合规、安全、高效。

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