超高正弦孔道暴露比ZSM-5分子筛及其制备方法

本发明公开了超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛及其制备方法，属在无机化学技术领域。以“结构单元mfi”作为晶种(mfi结构单元属在MFI结构四个基本组成单元之一)，具体制备过程包括三个步骤：1)“mfi结构单元”制备，将MCM‑35分子筛粉末(wt％＝0.05～0.5)加入到pH＝12～15氢氧化钠溶液中进行碱处理；2)以“结构单元mfi”为晶种的水热合成，将碱处理混合物进行冷却，依次加入硅源与铝源，在15～30℃下搅拌0.5～3小时后将合成前躯体装入反应釜并转移至均相反应器中晶化；3)产物收集，晶化产物经离心分离、洗涤至中性、干燥后得到95％超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛。该分子筛其表面超高正弦孔道暴露比，在二甲苯异构体分离过程中展示了显著提升对二甲苯选择性，同时其制备过程操作简单、成本低。

《超高正弦孔道暴露比ZSM-5分子筛及其制备方法》是一发明专利，专利号为 2022107476672，当前法律状态为已下证，由安阳工学院提出申请，发明人为王凯;张允;赵帅;杜慧;付艳华;郑勇;周忠源，申请日期为2022-06-28，公开（公告）日期为2023-11-28，国际专利分类号（IPC）为 C01B 39/38 (2006.01)，高新资质：未报高企，所属技术领域包括：无机化学技术。该专利已下发证书，权利稳定，适合直接办理转让过户，是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更（过户）的一站式专利转让服务，专业顾问全程协助，确保交易合规、安全、高效。专利摘要：本发明公开了超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛及其制备方法，属在无机化学技术领域。以“结构单元mfi”作为晶种(mfi结构单元属在MFI结构四个基本组成单元之一)，具体制备过程包括三个步骤：1)“mfi结构单元”制备，将MCM‑35分子筛粉末(wt％＝0.05～0.5)加入到pH＝12～15氢氧化钠溶液中进行碱处理；2)以“结构单元mfi”为晶种的水热合成，将碱处理混合物进行冷却，依次加入硅源与铝源，在15～30℃下搅拌0.5～3小时后将合成前躯体装入反应釜并转移至均相反应器中晶化；3)产物收集，晶化产物经离心分离、洗涤至中性、干燥后得到95％超高正弦孔道暴露比ZSM‑5分子筛。该分子筛其表面超高正弦孔道暴露比，在二甲苯异构体分离过程中展示了显著提升对二甲苯选择性，同时其制备过程操作简单、成本低。

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